普拉勒CVD、MOCVD專用氫氣發(fā)生器是普拉勒（南京）儀器科技有限公司供應的產(chǎn)品，該公司是實驗室前處理設備的主要供應商。這款發(fā)生器專為化學氣相沉積（CVD）和金屬有機化學氣相沉積（MOCVD）技術(shù)設計。
 

基本信息 

1.工作原理：主要基于電解水技術(shù)。在電解池中，通過施加電壓使水分子分解為氫氣和氧氣。氫氣隨后經(jīng)過一系列的處理步驟，如氣液分離、干燥和純化，最終獲得高純度的氫氣。這些處理步驟有助于去除氫氣中的雜質(zhì)和水分，確保氫氣的純度和穩(wěn)定性。 

2.技術(shù)參數(shù)：氫氣純度可達99.999% - 99.99999%，氫氣流量為1L - 17L/min，輸出壓力0 - 80psi（約0.5MPa），壓力穩(wěn)定性0.001MPa，供電電源220V±10%、50HZ，消耗功率8kw（HYDROGEN - 17L），純水需求2MΩ&1L/h，氫氣容積20L（HYDROGEN - 17L），環(huán)境溫度1 - 40℃，相對濕度85%，海拔高度2000米，外形尺寸80x90x100（WxDxHcm）（HYDROGEN - 17L），凈重約200kg（HYDROGEN - 17L）。 

產(chǎn)品特點 

1. 高純度輸出：能夠穩(wěn)定產(chǎn)生高達99.999%至99.99999%純度的氫氣，確保在薄膜生長過程中不受雜質(zhì)的影響，從而提高最終產(chǎn)品的質(zhì)量和性能。采用英國Peculiar的離子膜技術(shù)和分子篩耐用干燥劑，以及先進的氫/水分離技術(shù)和除濕處理，有效分離并去除氫氣中的水分，保證輸出氫氣的純凈度。 

2. 精確的流量和壓力控制：配備高精度的流量和壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng)，因為在CVD和MOCVD過程中，氫氣的流量和壓力直接影響薄膜的生長速率和均勻性。通過精確控制這些參數(shù)，可以優(yōu)化薄膜的性能，滿足不同的應用需求。還集成微電腦控制系統(tǒng)，實時監(jiān)測和調(diào)整壓力與流量，保持氫氣輸出的穩(wěn)定性和可靠性。 

3. 多重安全性能：考慮到氫氣的易燃性，這類氫氣發(fā)生器設計了多重安全措施，包括泄漏監(jiān)測、自動關閉系統(tǒng)以及防爆構(gòu)造，確保實驗室和生產(chǎn)環(huán)境的安全。 

4. 創(chuàng)新技術(shù)應用：通常采用先進技術(shù)，如固態(tài)聚合物電解質(zhì)（SPE）技術(shù)，以確保產(chǎn)生高純度的氫氣，同時具備穩(wěn)定的壓力輸出，這對于半導體生產(chǎn)中的清洗、退火、賦活處理以及硅晶片的取向和外延生長調(diào)控等關鍵過程至關重要。 

5. 環(huán)保與安全設計：采用無堿液電解技術(shù)，直接電解純水，減少環(huán)境污染；同時，所有材料選擇均符合高標準環(huán)保要求，確保操作過程的安全。 

6. 自動化與易用性：操作過程簡便，同時配備了直觀的用戶界面和自動化控制系統(tǒng)，大大提升了實驗和生產(chǎn)的效率。 

應用領域 

1. CVD和MOCVD技術(shù)：作為還原劑和載氣，在CVD和MOCVD過程中起著至關重要的作用。通過提供高純度的氫氣，確保薄膜生長的純度和質(zhì)量。 

2. 半導體制造：在半導體制造領域具有廣泛的應用，為化學反應提供所需的還原劑或保護氣氛?？捎糜谇逑垂杵砻妗⑷コ趸锖偷锏入s質(zhì)，提高薄膜的純度和質(zhì)量；還可用于半導體生產(chǎn)中的清洗、退火、賦活處理以及硅晶片的取向和外延生長調(diào)控等關鍵過程。 

3. 其他科研領域：在生物學實驗、物理學研究以及氫能源開發(fā)和燃料電池的研究中也發(fā)揮著重要的作用。 

使用與維護 

使用前 

1）檢查設備：仔細檢查發(fā)生器外觀是否完好，電源連接是否正常，并核對裝箱單上的品名數(shù)量是否齊全。同時，確保儀器O?口暢通，加液口蓋子取下以便注液。 

2）環(huán)境準備：選擇一個具有良好通風性、遠離熱源、無震動、無陽光直射、無粉塵和腐蝕性氣體的場所放置。環(huán)境溫度應控制在0℃ - 40℃，環(huán)境相對濕度應不超過85%。 

3）正確接線與確認參數(shù)：確保設備接線正確，電源輸入電壓、電流及氫氣純度、流量等參數(shù)符合要求。 

使用中 

1）禁止私自調(diào)整：嚴禁在設備運行中隨意調(diào)整安全保護參數(shù)，如電流和氫氣流量，并且不應在未經(jīng)授權(quán)的情況下進行機內(nèi)部件的更換或調(diào)整。 

2）良好通風與禁止危險操作：確保設備使用區(qū)域通風良好，不得將設備置于爆炸危險環(huán)境中，如靠近火源或易燃物旁。 

3）防止氣體泄漏：確保氫氣發(fā)生器輸出口氣管連接正確，防止氫氣泄漏。 

4）避免異常工作：在使用過程中，如發(fā)生器出現(xiàn)異常工作情況，須立即停機檢查，并由專業(yè)人員進行問題排查和解決。 

使用后 

1）檢查輸出口氣管：在供氫前，必須檢查氫氣發(fā)生器輸出口的氣管是否已正確連接。 

2）斷開電源前操作：在關閉并斷開電源前，應先拔掉輸出口氣管，避免殘留氫氣造成的安全隱患。 

保養(yǎng)和檢修 

1）定期維護清潔：為延長設備使用壽命并保持其高效運行，必須定期對氫氣發(fā)生器進行維護保養(yǎng)，包括清洗和更換吸附劑等關鍵部件。 

2）記錄維護信息：每次維護檢查后，應詳細記錄設備狀態(tài)、檢查人員信息及維護日期，以備后續(xù)查看和故障排查。 

常見問題解決方案 

1）避免氫氣泄漏的措施：定期檢查設備氣路的密封性，發(fā)現(xiàn)問題及時修復，并使用符合標準要求的設備來運輸和存儲氫氣。 

2）保持氫氣純度的方法：嚴格遵守使用規(guī)范，定期更換吸附劑，并使用相同類型和規(guī)格的吸附劑，以確保氫氣的純度。